CMP研磨垫_供应产品_东莞市欣帕得光电科技有限公司

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专注于高分子耐磨材料及功能用布的研发与生产，核心覆盖聚氨酯橡塑聚合物、CR (Neoprene)、SBR、SCR（CS）、PU FOAM、纳米聚合物等高分子材料体系，同时深耕聚氨酯耐磨皮、阻尼布、纳米聚合布、导电布、液晶配向布、超纤布、合成纤维聚合物等功能用布领域。凭借专业的研发能力与生产经验，聚焦材料性能优化与产品定制化开发，为各行业提供高性能、适配性强的材料解决方案，持续推动高分子材料在工业应用中的创新与落地。如您有产品咨询、定制需求或建议，可通过以下方式联系我们：联系电话：18318318306 官方邮箱：czp@cmp-pad.com 联系人：陈志鹏

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	聚氨酯抛光垫、氧化铈抛光皮供应商直供氧化铈、氧化铝抛光皮氧化铈、氧化铝抛光皮，日本技术，专业生产，厂家直销国内国际优势价格：替代LP66、LP77、LP26、LP57、IC1010、KSP等进口抛光片。主成份含量密度(g/cm3)硬度(JIS-A)CeO223-25%0.4577-80UnfilledUnfilled0.6295Fe2O37.7%0.6687广泛应用于●精密光学●平板玻璃/ LCD / FPD●存储磁盘驱动器●半导体陶瓷基板●光学玻璃●LED蓝宝石基板●晶体等抛光领域，可以抛光多种材质的工件如硅片、砷化镓、石英晶体、蓝宝石	2025-12-23
	氧化铈抛光皮批量供应光学元件抛光用氧化铈抛光皮氧化铈抛光皮，日本技术，专业生产，厂家直销国内国际优势价格：参数类别具体规格说明核心成分聚氨酯基材 + 高纯度氧化铈磨料（CeO₂含量＞85%）磨粒粒径D50控制在0.8-1.4m，避免划伤工件硬度选择HA705 / HA805 / HA905软硬度按需匹配，硬规格适用于粗抛去痕，软规格适用于精抛提亮尺寸与凹槽支持定制任意尺寸及凹槽设计完美适配各类抛光设备，精准贴合2.5D/3D曲面工件弧度适用pH范围6.0-8.0（中性至弱碱性）兼容常规	2025-12-23
	氧化铈抛光皮定制精密抛光皮供应氧化铈抛光皮精密抛光专用高耐磨光学级抛光耗材一、产品核心优势：稳定耐用，性价比拉满双效抛光更省心：氧化铈磨料具备独特化学软化+机械剥离特性，相比普通抛光皮，玻璃表面划痕去除效率提升40%，最终表面粗糙度可低至Ra0.025m，呈现完美镜面效果。耐造性行业领先：聚氨酯基材赋予高耐水性、耐高温性，抛光过程中不易吸水变形，可承受60℃以内持续作业温度，耐磨耗性能优异，单次使用周期比普通抛光皮延长50%以上。成本优化更	2025-12-23
	氧化铈抛光皮现货供应光学加工耗材氧化铈抛光皮精密抛光专用高耐磨光学级抛光耗材一、产品核心优势：稳定耐用，性价比拉满三重抛光更高效：氧化铈磨料通过Ce³⁺/Ce⁴⁺可变价特性，快速完成氧化-络合-剥离循环，相比氧化铝抛光皮，K9玻璃材料去除率达1.55mg/min，提升40%，表面粗糙度低至Ra0.018m，雾度（Haze）值＜0.1%，完美呈现光学级镜面效果。超耐用性突破行业标准：聚氨酯基材经高温交联处理，形成硬而不脆的固结结构，显微硬度达6GPa，断裂韧性比传统	2025-12-23
	定制 CMPPAD 抛光垫大尺寸晶圆抛光垫供应 SUBA合成纤维聚合物抛光垫SUBA合成纤维聚合物抛光垫，日本技术，专业生产，厂家直销国内国际优势价格：替代：POLYPAS 、Supreme (Politex) 、UNI-NAP精抛皮、PRIMAR 、SUBA800600白色抛光垫片、UNALUX终道抛光垫、IKONIC研磨垫、 LP、KSP等进口CMP抛光片。广泛应用于●精密光学●平板玻璃/ LCD / FPD●存储磁盘驱动器●半导体陶瓷基板●光学玻璃●LED蓝宝石基板●晶体等抛光领域，可以抛光多种材质的工件如硅片、砷化镓、石墨烯屏	2025-12-23
	CMP 抛光垫芯片制造晶圆抛光垫定制供应 SUBA合成纤维聚合物抛光垫抛光垫规格项目具体内容参数抛光垫常用尺寸圆形片380mm圆形片460mm圆形片610mm圆形片910mm圆形：230(mm)、380(mm)、640(mm)、610(mm)、820(mm)、920(mm)、960(mm)、1180(mm)、1250(mm)、1280(mm)。宽幅：1.38M抛光垫常用厚度0.6-1.5mm抛光垫的深加工可针对适用之项目制作不同尺寸形状，制作剖沟、冲孔及背胶加工。可提供背PT耐酸碱AB双面胶（无残留胶）、贴合不同厚度缓冲垫及胶片。可提供背PT双面	2025-12-23
	供应蓝宝石抛光垫光学晶体 / LED 衬底专用抛光垫 SUBA合成纤维聚合物抛光垫CMPPAD系列抛光垫片可以对硅片、砷化镓、磷化铟、玻璃硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石晶片、碳化硅晶片等材质或工件进行精密抛光。SUNHIN精抛光布 (Final polishing pad)以聚氨酯为主体材料，经涂层，发泡，削平及拉毛等工艺制成，它的特点是毛长，微孔大，吸药性强，同时，背面涂有高阻水性胶膜，粘结强度大，不宜脱落。SUNHIN拥有专门在抛光垫表面制作各种形状沟槽的设备及工艺，可根据用户要求设计制	2025-12-23

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